000027071 000__ 01396cam\a22003735i\4500 000027071 001__ 27071 000027071 003__ SzGeWIPO 000027071 005__ 20230721105347.0 000027071 008__ 040706s2012\\\\sz\\\\\\r\\\\u000\0\fre\d 000027071 020__ $$a9789280521498 000027071 020__ $$z9280521497 000027071 035__ $$a(wipo)(CD )04-0228 000027071 035__ $$a(OCoLC)1159482912 000027071 040__ $$aSzGeWIPO$$beng$$erda$$cSzGeWIPO$$dCaBNVSL 000027071 041__ $$afre 000027071 084__ $$aW J3 911(F) 2012 000027071 090__ $$c29475$$d29464 000027071 1102_ $$aOrganisation Mondiale de la Propriété Intellectuelle 000027071 24512 $$aL'arrangement de La Haye concernant l'enregistrement international des dessins et modèles industriels :$$bprincipales caractéristiques et avantages. 000027071 264_1 $$aGenève, Switzerland :$$bOrganisation Mondiale de la Propriété Intellectuelle,$$c2012. 000027071 300__ $$a13 pages ;$$c21 cm. 000027071 336__ $$atext$$btxt$$2rdacontent 000027071 337__ $$aunmediated$$bn$$2rdamedia 000027071 338__ $$avolume$$bnc$$2rdacarrier 000027071 4901_ $$aPublication De L'Ompi 000027071 500__ $$aTable des matières : Introduction; Qui peut utiliser le système de la Haye?; Oú peut-on obtenir la protection?; La demande internationale; Effets de l'enregistrement international; Durée de la protection; Modification apportées au registre international; Avantages du système de la Haye; Informations complémentaires sur le système de la Haye. 000027071 500__ $$aPublication de l'OMPI No. 911(F) 2012. 000027071 650_4 $$aModèles Industriels 000027071 650_4 $$aArrangement de la Haye 000027071 903_0 $$aPublication de l'OMPI 000027071 942__ $$cMON$$jW J3 911(F) 2012 000027071 952__ $$w2013-04-03$$p2013-0125$$u41550$$bMAIN$$10$$kW J3 911(F) 2012$$v2013-04-03$$zTagged$$71$$cLibrary 000027071 980__ $$aBIB 000027071 980__ $$aHAGUE 000027071 999__ $$c29475$$d29475